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Which Mask is Preferred for Sub-60 nm Node Imaging?
Online Contents | 2007|Beteiligte: Lee, Jeung-Woo -
Mask Critical Dimension Specification Considering Process Sensitivity of Mask Error in Extreme Ultraviolet Lithography
Online Contents | 2007|Beteiligte: Lee, Jeung-woo -
Gasification of Mixed Plastic Wastes in a Moving-Grate Gasifier and Application of the Producer Gas to a Power Generation Engine
American Chemical Society | 2013| -
Economic analysis of biomass power generation schemes under renewable energy initiative with Renewable Portfolio Standards (RPS) in Korea
Online Contents | 2011|Beteiligte: Lee, Jeung-Woo -
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Online Contents | 2007|Beteiligte: Lee, Jeung-Woo -
DUV, VUV and EUV Lithography - Mask Critical Dimension Specification Considering Process Sensitivity of Mask Error in Extreme Ultraviolet Lithography
Online Contents | 2007|Beteiligte: Lee, Jeung-Woo
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