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Optical plasma emission spectroscopy of etching plasmas used in Si-based semiconductor processing
Online Contents | 2002| -
Dilute hydrogen plasma cleaning of boron from silicon after etching of HfO~2 films in BCl~3 plasmas: Substrate temperature dependence
British Library Online Contents | 2009| -
Studies of chlorine-oxygen plasmas and evidence for heterogeneous formation of ClO and ClO~2 (10 pages)
British Library Online Contents | 2009| -
Auger electron spectroscopy study of reactor walls in transition from an O~2 to a Cl~2 plasma
British Library Online Contents | 2009| -
Mechanisms and selectivity for etching of HfO~2 and Si in BCl~3 plasmas
British Library Online Contents | 2008| -
Reactions of C2(a 3πu) with CH4, C2H2, C2H4, C2H6, and O2 using multiphoton UV excimer laser photolysis
NationallizenzElsevier | 1979| -
Instabilities in Capacitively Coupled Plasmas Driven by Asymmetric Trapezoidal Voltage Pulses
British Library Online Contents | 2014| -
Effect of titanium contamination on oxygen atom recombination probability on plasma conditioned surfaces
British Library Online Contents | 2013| -
Abrupt transitions in species number densities and plasma parameters in a CH~3F/O~2 inductively coupled plasma (4 pages)
British Library Online Contents | 2013|
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