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>220W output power at 355nm from a Q-switched diode-pumped solid-state laser [8959-23]
British Library Conference Proceedings | 2014| -
0.1-nanometer resolution positioning stage for sub-10 nm scanning probe lithography [8680-44]
British Library Conference Proceedings | 2013| -
0.1-m high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control [3331-73]
British Library Conference Proceedings | 1998| -
0.2-m lithography using i-line and alternating phase-shift mask [2726-23]
British Library Conference Proceedings | 1996| -
0.3-mum pitch random interconnect patterning with node connection phase-shifting mask: experiments and simulations [4000-32]
British Library Conference Proceedings | 2000| -
0.4μm high voltage CMOS smart power technology: 120V LD NMOS for integrated system on chip applications [8549-137]
British Library Conference Proceedings | 2012| -
0.5 micron deep UV lithography using a micrascan-90 step-and-scan exposure tool
Tema Archiv | 1991| -
0.5-THz waveguide SIS mixers with NbN/AlN/NbN technology [6840-07]
British Library Conference Proceedings | 2008| -
0.5-m deep-UV photolithography manufacturing [2197-67]
British Library Conference Proceedings | 1994| -
0.7-in. 1280 x 1024 active-matrix electroluminescent display using a 12-m pixel structure [3362-32]
British Library Conference Proceedings | 1998| -
0.7-NA DUV step-and-scan system for 150-nm imaging with improved overlay [3679-41]
British Library Conference Proceedings | 1999| -
0.8V ultralow-power CMOS analog multiplexer for remote biological and chemical signal processing [5389-03]
British Library Conference Proceedings | 2004| -
0.11-mum imaging in KrF lithography using dipole illumination [4404-35]
British Library Conference Proceedings | 2001|
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