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0.13μm BiCMOS emitter window lithography with KrF scanners [7274-107]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
22nm half-pitch patterning by CVD spacer self alignment double patterning (SADP) [6924-169]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
22-nm-node technology active-layer patterning for planar transistor devices
Online Contents | 2010|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
22 nm technology node active layer patterning for planar transistor devices [7274-126]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
30nm half-pitch metal patterning using Moti CD shrink technique and double patterning [6924-83]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
32 nm 1:1 line and space patterning by resist reflow process [6924-185]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
32nm and below logic patterning using optimized illumination and double patterning [7274-19]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
32 nm half pitch formation with high numerical aperture single exposure [7274-71]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
32 nm logic patterning options with immersion lithography [6924-200]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
32nm node device laser-bandwidth OPE sensitivity and process matching [7274-115]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
32nm overlay improvement capabilities [6924-166]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
45nm and 32nm half-pitch patterning with 193nm dry lithography and double patterning [6924-72]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
45nm node logic device OPE matching between exposure tools through laser bandwidth tuning [6924-92]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
60nm half pitch contact layer printing: exploring the limits at 1.35NA lithography [6924-119]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
90nm node contact hole patterning through applying model based OPC in KrF lithography [6924-103]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
100 nm half-pitch double exposure KrF lithography using binary masks [6924-70]
British Library Conference Proceedings | 2008|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
Abbe-PCA (Abbe-Hopkins): microlithography aerial image analytical compact kernel generation based on principle component analysis [7274-92]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J. -
A CDU comparison of double patterning process options using Monte Carlo simulation [7274-66]
British Library Conference Proceedings | 2009|Beteiligte: Levinson, Harry J.
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