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Modeling the Pressure Dependence of DC Bias Voltage in Asymmetric, Capacitive RF Sheaths
Online Contents | 1998| -
Modeling the Pressure Dependence of DC Bias Voltage in Asymmetric, Capacitive RF Sheaths
British Library Online Contents | 1998| -
Effects of flare in extreme ultraviolet lithography: Learning from the engineering test stand
British Library Online Contents | 2004| -
LWR reduction and flow of chemically amplified resist patterns during sub-millisecond heating [7972-100]
British Library Conference Proceedings | 2011| -
Time Dependent Behavior of Chemically Amplified Resist Characterized under Sub-millisecond Post Exposure Bake
British Library Online Contents | 2011| -
EUV lithography for 30nm half pitch and beyond: exploring resolution, sensitivity, and LWR tradeoffs [7273-110]
British Library Conference Proceedings | 2009| -
Addressing challenges in lithography using sub-millisecond post exposure bake of chemically amplified resists [7972-45]
British Library Conference Proceedings | 2011| -
Submillisecond post-exposure bake of chemically amplified resists by CO~2 laser spike annealing
British Library Conference Proceedings | 2009| -
EUV lithography for 22nm half pitch and beyond: exploring resolution, LWR, and sensitivity tradeoffs [7636-24]
British Library Conference Proceedings | 2010| -
Submillisecond post-exposure bake of chemically amplified resists by CO~2 laser spike annealing
British Library Online Contents | 2009| -
Determination of the Line Edge Roughness Specification for 34 nm Devices
British Library Conference Proceedings | 2002| -
Techniques for directly measuring the absorbance of photoresists at EUV wavelengths
Tema Archiv | 2004| -
EUV Resist Testing Status and Post Lithography LWR Reduction
British Library Online Contents | 2011| -
Effects of processing parameters on line-width roughness [5039-42]
British Library Conference Proceedings | 2003|
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