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α-Particle Loss from Cylindrical Magnetized DT Plasma
Springer Verlag | 2003|Schlagwörter: α-deposition -
ZrO~2 Thin Films Grown on 2D and 3D Silicon Surfaces by DLI-MOCVD for Electronic Devices
British Library Conference Proceedings | 2009|Schlagwörter: Chemical vapor deposition -
Zones of Exocytotic Release on Bovine Adrenal Medullary Cells in Culture
NTIS | 1994|Schlagwörter: Deposition -
Zn sub 3 P sub 2 as an Improved Semiconductor for Photovoltaic Devices. Final Report, July 17, 1976-September 1, 1978
NTIS | 1978|Schlagwörter: Deposition -
ZnSe for mirror passivation of high power GaAs based lasers
IET Digital Library Archive | 1996|Schlagwörter: molecular beam deposition -
Zinc Malonate Based Precursors for MOCVD of ZnO
British Library Conference Proceedings | 2009|Schlagwörter: Chemical vapor deposition -
YIP-Low-Order Representations of Irregular Surface Roughness and Their Impact on Wall Turbulence
NTIS | 2010|Schlagwörter: Deposition -
Yellow Creek Sedimentation Study: Numerical Model Investigation
Freier ZugriffHENRY – Bundesanstalt für Wasserbau (BAW) | 1993|Schlagwörter: Deposition -
X-ray Standing Wave Studies of Underpotentially Deposited Metal Monolayers
NTIS | 1992|Schlagwörter: Deposition -
X-Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Si-C Film Growth by Chemical Vapor Deposition of Ethylene on Si(100)
NTIS | 1988|Schlagwörter: Chemical vapor deposition, Vapor deposition -
X-ray diffraction and raman spectroscopy characterization of isotropic pyrocarbon obtained by hot wall chemical vapor deposition
Springer Verlag | 2013|Schlagwörter: chemical vapor deposition -
Xdep-I. A Fortran II Code for the Calculation of X Rayenergy Deposition in a Layered, Multicomponent Medium
NTIS | 1965|Schlagwörter: Deposition -
Work Unit Directive (WUD54) Amendment - Materials Process Design
NTIS | 1996|Schlagwörter: Chemical vapor deposition -
Workshop Report and Presentations from the Semiconductor Research Corporation-DOE Semiconductor Task Force Workshop
NTIS | 1987Schlagwörter: Deposition -
Workshop on Temperature Measurement of Semiconductor Wafers Using Thermocouples
NTIS | 2001|Schlagwörter: Chemical vapor deposition
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