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Calibration of physical resist models: methods, usability, and predictive power
Online Contents | 2009| -
Calibration of physical resist models for simulation of extreme ultraviolet lithography
Online Contents | 2011| -
Anordnung und Verfahren zum Steuern einer konstanten Leistungs-Ableitung, Speicherarray und Computerprogrammprodukt
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2015| -
Magnetoresistive Speicherzelle, Verfahren zum Programmieren einer magnetoresistiven Speicherzelle und Verfahren zum Auslesen einer magnetoresistiven Speicherzelle
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2015| -
LITHOGRAPHY IMPROVEMENT BASED ON DEFECT PROBABILITY DISTRIBUTIONS AND CRITICAL DIMENSION VARIATIONS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
Inclusion of stochastic behavior in source mask optimization
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2022| -
INCLUSION OF STOCHASTIC BEHAVIOR IN SOURCE MASK OPTIMIZATION
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
Contour-based model calibration to a minimum number of patterns
British Library Conference Proceedings | 2021| -
Lithography improvement based on defect probability distributions and critical dimension variations
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2022| -
LITHOGRAPHY IMPROVEMENT BASED ON DEFECT PROBABILITY DISTRIBUTIONS AND CRITICAL DIMENSION VARIATIONS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
PREDICTING DEFECT RATE BASED ON LITHOGRAPHIC MODEL PARAMETERS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
PREDICTING DEFECT RATE BASED ON LITHOGRAPHIC MODEL PARAMETERS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2022| -
Predicting defect rate based on lithographic model parameters
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
PREDICTING DEFECT RATE BASED ON LITHOGRAPHIC MODEL PARAMETERS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
Process optimization for next generation high-NA EUV patterning by computational lithography techniques
British Library Conference Proceedings | 2023|
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