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METHODS OF FORMING HIGHLY P-TYPE DOPED GERMANIUM TIN FILMS AND STRUCTURES AND DEVICES INCLUDING THE FILMS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
P METHODS OF FORMING HIGHLY P-TYPE DOPED GERMANIUM TIN FILMS AND STRUCTURES AND DEVICES INCLUDING THE FILMS
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Methods of forming highly p-type doped germanium tin films and structures and devices including the films
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
SURFACE MODIFIERS FOR ENHANCED EPITAXIAL NUCLEATION AND WETTING
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
METHODS OF EPITAXIALLY GROWING BORON-CONTAINING STRUCTURES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
METHODS FOR SELECTIVE DEPOSITION UTILIZING N-TYPE DOPANTS AND/OR ALTERNATIVE DOPANTS TO ACHIEVE HIGH DOPANT INCORPORATION
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
METHODS FOR SELECTIVE DEPOSITION UTILIZING N-TYPE DOPANTS AND/OR ALTERNATIVE DOPANTS TO ACHIEVE HIGH DOPANT INCORPORATION
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
Methods for selective deposition utilizing n-type dopants and/or alternative dopants to achieve high dopant incorporation
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
N / METHODS FOR SELECTIVE DEPOSITION UTILIZING N-TYPE DOPANTS AND/OR ALTERNATIVE DOPANTS TO ACHIEVE HIGH DOPANT INCORPORATION
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
METHODS OF EPITAXIALLY GROWING BORON-CONTAINING STRUCTURES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2020| -
METHODS FOR FORMING A SILICON GERMANIUM TIN LAYER AND RELATED SEMICONDUCTOR DEVICE STRUCTRUES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
SURFACE MODIFIERS FOR ENHANCED EPITAXIAL NUCLEATION AND WETTING
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
METHODS FOR FORMING A SILICON GERMANIUM TIN LAYER AND RELATED SEMICONDUCTOR DEVICE STRUCTURES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
Chemistry and kinetics governing hydride/chloride chemical vapor deposition of epitaxial Ge1−xSnx
American Institute of Physics | 2019| -
Temperature-controlled flange and reactor system including same
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
- Radial and thickness control via biased multi-port injection settings
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2022| -
TEMPERATURE-CONTROLLED FLANGE AND REACTOR SYSTEM INCLUDING SAME
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2020| -
TEMPERATURE-CONTROLLED FLANGE AND REACTOR SYSTEM INCLUDING SAME
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2020|
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