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ToF-SIMS characterization of contamination in ultra low-k dielectric films
British Library Online Contents | 2010| -
Innovative Gap-Fill Strategy for 28 nm Shallow Trench Isolation
British Library Conference Proceedings | 2012| -
Innovative Gap-Fill Strategy for 28 nm Shallow Trench Isolation
British Library Conference Proceedings | 2012| -
Porous ultra low k deposited by PECVD: From deposition to material properties
British Library Online Contents | 2007| -
Model and Fitting Results for the Filamentary Conduction in MIM Resistive Switching Devices
British Library Conference Proceedings | 2011| -
Plasma-enhanced-chemical-vapor-deposited ultralow k for a postintegration porogen removal approach (3 pages)
British Library Online Contents | 2006| -
Aging of electrical conductivity in conducting polymer films based on polyaniline
British Library Online Contents | 2000| -
Influence of polymer porogens on the porosity and mechanical properties of spin coated Ultra Low k dielectrics
British Library Online Contents | 2009| -
Grazing incidence small angle x-ray scattering study of the structure of nanoporous ultralow-k dielectrics prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2009| -
The role of the local chemical environment of Ag on the resistive switching mechanism of conductive bridging random access memories
British Library Online Contents | 2015| -
SiOCH thin films deposited by chemical vapor deposition: From low-κ to chemical and biochemical sensors
British Library Online Contents | 2017|
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