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Synonyme wurden verwendet für: ENGINEERING • FOR • OPTICAL ENGINEERING • SOCIETY
Suche ohne Synonyme: journal:(PROCEEDINGS - SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING)
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- industrielle technik
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0.5 micron deep UV lithography using a micrascan-90 step-and-scan exposure tool
Tema Archiv | 1991| -
0.5 terawatt laser based on a hybrid architecture for high energy diode-pumped lasers delivering sub-500 fs pulses
British Library Conference Proceedings | 2020| -
0.5-THz waveguide SIS mixers with NbN/AlN/NbN technology [6840-07]
British Library Conference Proceedings | 2008| -
0.5W CW single frequency blue at 486 nm via SHG with net conversion of 81.5% from the NIR using a 30mm PPMgO:SLT crystal in a resonant cavity [9347-10]
British Library Conference Proceedings | 2015 -
0.5-m deep-UV photolithography manufacturing [2197-67]
British Library Conference Proceedings | 1994| -
0.6 mJ single-frequency pulsed fiber amplifier based on hybrid active fiber
British Library Conference Proceedings | 2023| -
0.7-in. 1280 x 1024 active-matrix electroluminescent display using a 12-m pixel structure [3362-32]
British Library Conference Proceedings | 1998| -
0.7-NA DUV step-and-scan system for 150-nm imaging with improved overlay [3679-41]
British Library Conference Proceedings | 1999| -
0.8V ultralow-power CMOS analog multiplexer for remote biological and chemical signal processing [5389-03]
British Library Conference Proceedings | 2004| -
0.9W compact UV pulsed lasers using high-power VCSEL array side-pumping [8599-56]
British Library Conference Proceedings | 2013| -
0.11-mum imaging in KrF lithography using dipole illumination [4404-35]
British Library Conference Proceedings | 2001| -
0.12-mum logic process using a 248-nm step-and-scan system [3999-29]
British Library Conference Proceedings | 2000| -
0.13-/0.15-mum production reticle process window qualification procedure for 200-mm manufacturing fab [5446-10]
British Library Conference Proceedings | 2004| -
0.13-mum optical lithography for random logic devices using 248-nm attenuated phase-shifting masks [4000-10]
British Library Conference Proceedings | 2000| -
0.13μm BiCMOS emitter window lithography with KrF scanners [7274-107]
British Library Conference Proceedings | 2009| -
0.15-m pattern formation using cell projection electron-beam direct writing with variable shot size [3048-02]
British Library Conference Proceedings | 1997|
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