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A Neutron Reflectivity Investigation of Surface and Interface Segregation of Polymer Functional End Groups
British Library Online Contents | 1994| -
In Situ Multi-Wavelength Ellipsometric Control of Thickness and Composition of Bragg Reflector Structures
British Library Conference Proceedings | 1996| -
InP optical constants between 0.75 and 5.0 eV determined by variable-angle spectroscopic ellipsometry
British Library Online Contents | 1995| -
Control of etch depth in patterned semiconductor substrates using real time spectroscopic ellipsometry
British Library Online Contents | 2004| -
Spectroscopic ellipsometry studies of indium tin oxide and other flat panel display multilayer materials
British Library Conference Proceedings | 1994| -
Control of etch depth in patterned semiconductor substrates using real time spectroscopic ellipsometry
British Library Conference Proceedings | 2004| -
In-situ monitoring and control of MOCVD growth using multiwavelength ellipsometry
Tema Archiv | 1995| -
Optical characterization of polycrystalline silicon thin films [2725-76]
British Library Conference Proceedings | 1996| -
Application of spectroscopic ellipsometry for real-time control of CdTe and HgCdTe growth in an OMCVD system
NationallizenzSpringer Verlag | 1995| -
Spectroscopic ellipsometric monitoring of electron cyclotron resonance plasma etching of GaAs and AlGaAs
American Institute of Physics | 1995| -
Use of spectroscopic ellipsometry for feedback control during the growth of thin AlAs layers
British Library Online Contents | 1999|
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