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SINGLE CRYSTAL PULLING APPARATUS AND METHOD FOR PULLING SINGLE CRYSTAL
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
SINGLE CRYSTAL SILICON SUBSTRATE EQUIPPED WITH NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SINGLE CRYSTAL SILICON SUBSTRATE EQUIPPED WITH NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
METHOD FOR MANUFACTURING 3C-SIC LAMINATED SUBSTRATE, 3C-SIC LAMINATED SUBSTRATE, AND 3C-SIC INDEPENDENT SUBSTRATE
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
Wafer marking method, method for manufacturing nitride semiconductor device, and nitride semiconductor substrate
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
METHOD FOR EVALUATING CRYSTAL DEFECTS OF SILICON CARBIDE SINGLE CRYSTAL WAFER
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
Nitride semiconductor substrate and method for manufacturing same
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
METHOD FOR CLEANING SILICON WAFER, METHOD FOR PRODUCING SILICON WAFER, AND SILICON WAFER
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
METHOD FOR CONTROLLING DONOR CONCENTRATION IN SILICON SINGLE CRYSTAL SUBSTRATE
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
Anfasvorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines kerbfreien Wafers
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
Verfahren zum Bewerten von Polier-Pads und Verfahren zum Polieren von Wafern
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2024| -
COMPOSITION FOR POLISHING, AND POLISHING METHOD AND POLISHING DEVICE FOR SILICON WAFER
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
Method for cleaning silicon wafer, method for manufacturing silicon wafer, and silicon wafer
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
LIGHT EMITTING ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023|
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