Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10–30 nm (Französisch)
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In:
Journal de Physique IV (Proceedings)
;
108
;
255-258
;
2003
- Aufsatz (Zeitschrift) / Elektronische Ressource
-
Titel:Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10–30 nm
-
Beteiligte:Delmotte, F. ( Autor:in ) / Ravet, M. F. ( Autor:in ) / Bridou, F. ( Autor:in ) / Song, X. ( Autor:in ) / Jerome, A. ( Autor:in ) / Boujdayane, S. ( Autor:in ) / Hubert, S. ( Autor:in ) / Zeitoun, Ph. ( Autor:in ) / Idir, M. ( Autor:in ) / Troussel, P. ( Autor:in )
-
Erschienen in:Journal de Physique IV (Proceedings) ; 108 ; 255-258
-
Verlag:
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Erscheinungsdatum:01.06.2003
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Format / Umfang:4 pages
-
ISSN:
-
DOI:
-
Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Französisch
-
Datenquelle:
Inhaltsverzeichnis – Band 108
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Introduction - Sources et impacts potentiels des micropolluants chimiques sur un écosystème littoral exploité : l'exemple des côtes de Charente-MaritimeMiramand, P. et al. | 2003
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Sources et impacts potentiels des micropolluants chimiques sur un écosystème littoral exploité : l'exemple des côtes des Charente-MaritimeMiramand, P. / Guyot, T. / Pigeot, J. et al. | 2003
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Ablation, matériaux et couches minces - Des lasers à excimères pour cristalliser le silicium des écrans plats : pourquoi ? comment ?Prat, C. et al. | 2003
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Des lasers à excimères pour cristalliser le silicium des écrans plats : pourquoi ? comment ?Prat, C. et al. | 2003
- 13
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Ablation, matériaux et couches minces - Micro-usinage nanoseconde UV ou femtoseconde : état de l'art et comparaisonLopez, J. et al. | 2003
- 13
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Micro-usinage nanoseconde UV ou femtoseconde : état de l'art et comparaisonLopez, J. / Salin, F. / Hernandez, M.-C. / Faucon, M. et al. | 2003
- 19
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Dépôt par ablation laser UV nanoseconde pour la réalisation de composants TélécomChampeaux, C. / Delage, T. / Orlianges, J. C. / Catherinot, A. / Pothier, A. / Seaux, J. F. / Blondy, P. / Madrangeas, V. / Cros, D. et al. | 2003
- 19
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Ablation, matériaux et couches minces - Dépôt par ablation laser UV nanoseconde pour la réalisation de composants TélécomChampeaux, C. et al. | 2003
- 23
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Ablation, matériaux et couches minces - Formation et transformation de défauts ponctuels par insolation UV dans les diélectriques à base de silice : application à l'intégration de composants optiques sur fibreBoukenter, A. et al. | 2003
- 23
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Formation et transformation de défauts ponctuels par insolation UV dans les diélectriques à base de silice : application à l'intégration de composants optiques sur fibreBoukenter, A. / Goutaland, F. / Kuswanto, H. / Marin, E. / Meunier, J. P. / Ouerdane, Y. et al. | 2003
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Ablation, matériaux et couches minces - Diagnostic du plasma d'ablation laser pour la croissance de couches mincesBasillais, A. et al. | 2003
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Diagnostic du plasma d'ablation laser pour la croissance de couches mincesBasillais, A. / Benzerga, R. / Le Menn, E. / Mathias, J. / Boulmer-Leborgne, C. / Perrière, J. et al. | 2003
- 33
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Ablation, matériaux et couches minces - Ablation laser femtoseconde pour le dépôt de DLCLoir, A.-S. et al. | 2003
- 33
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Ablation laser femtoseconde pour le dépôt de DLCLoir, A.-S. / Garrelie, F. / Donnet, C. / Goutaland, F. / Belin, M. / Subtil, J.-L. / Le Harzic, R. / Rogemond, F. / Ouerdane, Y. / Laporte, P. et al. | 2003
- 37
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Ablation, matériaux et couches minces - Ablation de ZnO par laser UV (193 nm) : nano-agrégats en phase gazeuseOzerov, I. et al. | 2003
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Ablation de ZnO par laser UV (193 nm) : nano-agrégats en phase gazeuseOzerov, I. / Bulgakov, A. / Nelson, D. / Castell, R. / Sentis, M. / Marine, W. et al. | 2003
- 41
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Ablation de matériaux par laser femtosecondeBruneau, S. / Hermann, J. / Itina, T. / Sentis, M. / Semerok, A. / Marine, W. et al. | 2003
- 41
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Ablation, matériaux et couches minces - Ablation de matériaux par laser femtosecondeBruneau, S. et al. | 2003
- 45
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Ablation d'un film d'or par laser à excimèreSentis, M. / Hermann, J. / Pereira, A. / Delaporte, Ph. / Marine, W. / Perrière, J. / Bianchi, L. / Galli, R. et al. | 2003
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Ablation, matériaux et couches minces - Ablation d'un film d'or par laser à excimèreSentis, M. et al. | 2003
- 49
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Traitement superficiel d'acier par laser excimèrePereira, A. / Cros, A. / Delaporte, Ph. / Marine, W. / Sentis, M. et al. | 2003
- 49
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Ablation, matériaux et couches minces - Traitement superficiel d'acier par laser excimèrePereira, A. et al. | 2003
- 55
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Ablation, matériaux et couches minces - Décontamination nucléaire par laser UVDelaporte, Ph et al. | 2003
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Décontamination nucléaire par laser UVDelaporte, Ph. / Gastaud, M. / Marine, W. / Sentis, M. / Uteza, O. / Thouvenot, P. / Alcaraz, J. L. / Le Samedy, J. M. / Blin, D. et al. | 2003
- 59
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Ablation, matériaux et couches minces - Étude des processus physico-chimiques dans un plasma produit par ablation laser pour la croissance de couches mincesDutouquet, C. et al. | 2003
- 59
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Étude des processus physico-chimiques dans un plasma produit par ablation laser pour la croissance de couches mincesDutouquet, C. / Hermann, J. et al. | 2003
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Films minces ferroélectriques Ba2/3Sr1/3TiO3 par ablation laser pour applications hyperfréquencesDelage, T. / Champeaux, C. / Catherinot, A. / Seaux, J. F. / Madrangeas, V. / Cros, D. et al. | 2003
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Ablation, matériaux et couches minces - Films minces ferroélectriques Ba2-3Sr1-3TiO3 par ablation laser pour applications hyperfréquencesDelage, T. et al. | 2003
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Optimisation des paramètres de dépôt de DLC par ablation laser U.V. de carbone vitreuxOrlianges, J. C. / Champeaux, C. / Catherinot, A. / Blondy, P. et al. | 2003
- 67
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Ablation, matériaux et couches minces - Optimisation des paramètres de dépôt de DLC par ablation laser U.V. de carbone vitreuxOrlianges, J.C. et al. | 2003
- 71
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Caractérisation de jonctions ultra-minces réalisées par dopage laserKerrien, G. / Sarnet, T. / Débarre, D. / Hernandez, M. / Zahorski, D. / Venturini, J. / Laviron, C. / Semeria, M. N. / Boulmer, J. et al. | 2003
- 71
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Ablation, matériaux et couches minces - Caractérisation de jonctions ultra-minces réalisées par dopage laserKerrien, G. et al. | 2003
- 75
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Croissance en surfusion de métaborate de baryum par la méthode CzochralskiMaillard, A. / Moussambi, H. / Klein, R. S. / Polgar, K. et al. | 2003
- 75
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Ablation, matériaux et couches minces - Croissance en surfusion de métaborate de baryum par la méthode CzochralskiMaillard, A. et al. | 2003
- 81
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Impulsions attosecondesMével, E. et al. | 2003
- 81
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Impulsions attosecondesMével, E. / Tcherbakoff, O. / Descamps, D. / Plumridge, J. / Constant, E. et al. | 2003
- 85
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Raccourcissement de la durée de l'émission harmonique par génération d'une porte temporelleKovacev, M. / Merdji, H. / Priori, E. / Mairesse, Y. / Monchicourt, P. / Breger, P. / Tcherbakoff, O. / Mével, E. / Constant, E. / Salières, P. et al. | 2003
- 85
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Raccourcissement de la durée de l'émission harmonique par génération d'une porte temporelleKovacev, M. et al. | 2003
- 89
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Contrôle de la phase relative d'impulsions harmoniques à une échelle de temps attosecondeHergott, J.-F. / Kovacev, M. / Vernay, F. / Priori, E. / Merdji, H. / Salières, P. / Carré, B. et al. | 2003
- 89
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Contrôle de la phase relative d'impulsions harmoniques à une échelle de temps attosecondeHergott, J.-F. et al. | 2003
- 93
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Confinement temporel de la génération d'harmoniques d'ordre élevéTcherbakoff, O. / Plumridge, J. / Descamps, D. / Mével, E. / Salin, F. / Constant, E. et al. | 2003
- 93
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Confinement temporel de la génération d'harmoniques d'ordre élevéTcherbakoff, O. et al. | 2003
- 97
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Génération d'harmoniques élevées limitée par l'absorption : le microjoule atteint à 53 nmHergott, J.-F. et al. | 2003
- 97
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Génération d'harmoniques élevées limitée par l'absorption : le microjoule atteint à 53 nmHergott, J.-F. / Kovacev, M. / Merdji, H. / Hubert, C. / Mairesse, Y. / Jean, E. / Breger, P. / Agostini, P. / Salières, P. / Carré, B. et al. | 2003
- 101
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Mesures d'autocorrélation dans l'UVX avec des harmoniques d'ordre élevéKovacev, M. et al. | 2003
- 101
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Mesures d'autocorréiation dans l'UVX avec des harmoniques d'ordre élevéKovacev, M. / Merdji, H. / Priori, E. / Monchicourt, P. / Salières, P. / Carré, B. / Norin, J. / Persson, A. / L'Huillier, A. / Wahlström, C.-G. et al. | 2003
- 105
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Étude de la génération d'harmoniques par des faisceaux tronquésKazamias, S. / Weihe, F. / Douillet, D. / Valentin, C. / Planchon, T. / Sebban, S. / Grillon, G. / Augé, F. / Hulin, D. / Balcou, Ph. et al. | 2003
- 105
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Étude de la génération d'harmoniques par des faisceaux tronquésKazamias, S. et al. | 2003
- 109
-
Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Mesure de la dynamique couplée de propagation et d'ionisation d'une impulsion laser -- Application au laser X-OFI ou à la génération d'harmoniques d'ordres élevésValentin, C. et al. | 2003
- 109
-
Mesure de la dynamique couplée de propagation et d'ionisation d'une impulsion laser – Application au laser X-OFI ou à la génération d'harmoniques d'ordres élevésValentin, C. / Weihe, F. / Kazamias, S. / Haroutunian, R. / Sebban, S. / Grillon, G. / Augé, F. / Chériaux, G. / Rousse, A. / Hulin, D. et al. | 2003
- 113
-
Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Photoémission de CsI induite par une impulsion laser intense femtosecondeBelsky, A. et al. | 2003
- 113
-
Photoémission de Csl induite par une impulsion laser intense femtosecondeBelsky, A. / Vasil'ev, A. / Yatsenko, B. / Bachau, H. / Martin, P. / Geoffroy, G. / Guizard, S. et al. | 2003
- 119
-
La photoémission VUV résolue en temps sur des solides isolantsGeoffroy, G. / Guizard, S. / Belsky, A. / Constant, E. / Martin, P. / Mével, E. et al. | 2003
- 119
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - La photoémission VUV résolue en temps sur des solides isolantsGeoffroy, G. et al. | 2003
- 123
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Spectroscopie VUV sub-picoseconde : un détecteur haute cadence et un monochromateur pour impulsions femtosecondesMartin, P. / Belsky, A. / Zinin, E. / Philippov, A. / Idir, M. / Moreno, T. / Darpentigny, G. / Salin, F. et al. | 2003
- 123
-
Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Spectroscopie VUV sub-picoseconde : un détecteur haute cadence et un monochromateur pour impulsions femtosecondesMartin, P. et al. | 2003
- 127
-
Spectroscopie résolue en temps par continuum femtoseconde Applications en neurobiologieRamstein, S. / Mottin, S. et al. | 2003
- 127
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Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Spectroscopie résolue en temps par continuum femtoseconde Applications en neurobiologieRamstein, S. et al. | 2003
- 131
-
Impulsions VUV femtosecondes et applications, spectroscopie - Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UVCoursimault, F. et al. | 2003
- 131
-
Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UVCoursimault, F. / Motret, O. / Viladrosa, R. / Pouvesle, J. M. et al. | 2003
- 137
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Mesure de la durée d'émission X de différents éléments irradiés par un laser de puissance subpicosecondeChenais-Popovics, C. et al. | 2003
- 137
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Mesure de la durée d'émission X de différents éléments irradies par un laser de puissance subpicosecondeChenais-Popovics, C. / Dorchies, F. / Audebert, P. / Nagels, V. / Geindre, J. P. / Gauthier, J. C. / Peyrusse, O. / Gary, S. / Girard, F. et al. | 2003
- 143
-
Production d'électrons relativistes par interaction laser-plasma et application à la génération d'impulsions femtosecondes d'X dans le domaine du keVMarquès, J.-R. / David, P.-G. / Faure, J. / Fritzler, S. / Malka, V. / Najmudin, Z. / Rousse, A. / Ta Phuoc, K. / Walton, B. et al. | 2003
- 143
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Production d'électrons relativistes par interaction laser-plasma et application à la génération d'impulsions femtosecondes d'X dans le domaine du keVMarqués, J.-R. et al. | 2003
- 147
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Imagerie médicale avec des sources X créées par laserDorchies, F. et al. | 2003
- 147
-
Imagerie médicale avec des sources X créées par laserDorchies, F. / Chen, L. M. / Ichalalene, Z. / Jiang, Z. / Kieffer, J. C. / Chamberlain, C. C. / Krol, A. et al. | 2003
- 155
-
Lasers à électrons libres de courtes longueurs d'onde : état de l'art et perspectivesCouprie, M. E. et al. | 2003
- 155
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Lasers à électrons libres de courtes longueurs d'onde : état de l'art et perspectivesCouprie, M.E. et al. | 2003
- 161
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Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Lasers XUV collisionnels pompés par des lasers femtosecondeSebban, S. et al. | 2003
- 161
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Lasers XUV collisionnels pompés par des lasers femtosecondeSebban, S. / Upcraft, L. M. / Balcou, Ph. / Pittman, M. / Haroutunian, R. / Grillon, G. / Valentin, C. / Rousse, A. / Rousseau, J. P. / Notebaert, L. et al. | 2003
- 165
-
De UVX 92 (premier laser X saturé) à UVX 2002 (LASERIX), le laser X devient un outil pour les applications scientifiquesJamelot, G. / Ros, D. / Klisnick, A. / Zeitoun, Ph. / Dubau, J. / Lagron, J.-C. / Vanbostal, L. et al. | 2003
- 165
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - De UVX 92 (premier laser X saturé) à UVX 2002 (LASERIX), le laser X devient un outil pour les applications scientifiquesJamelot, G. et al. | 2003
- 169
-
Source par décharge capillaire pour la lithographie EUVCachoncinlle, C. / Robert, E. / Sarroukh, O. / Gonthiez, T. / Viladrosa, R. / Fleurier, C. / Pouvesle, J. M. et al. | 2003
- 169
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Source par décharge capillaire pour la lithographie EUVCachoncinlle, C. et al. | 2003
- 173
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Réalisation de réseaux sur polymères par laser UVCastex, M.C. et al. | 2003
- 173
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Réalisation de réseaux sur polymères par laser UVCastex, M. C. / Fischer, A. / Simeonov, D. / Adès, D. / Siove, A. et al. | 2003
- 179
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Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Effet Auger généré par rayons X issus de l'explosion d'agrégats soumis à un champ laser intensePalianov, P. et al. | 2003
- 179
-
Effet Auger généré par rayons X issus de l'explosion d'agrégats soumis à un champ laser intensePalianov, P. / Gaudin, J. / Martin, P. / Merdji, H. / Meynadier, P. / Perdrix, M. et al. | 2003
- 183
-
Étude et développement d'un flash X rafale à foyer uniqueIdrissi, M. M. / Viladrosa, R. / Robert, E. / Cachoncinlle, C. / Pouvesle, J. M. et al. | 2003
- 183
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Étude et développement d'un flash X rafale à foyer uniqueIdrissi, M.M. et al. | 2003
- 187
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Diagnostic X de la zone proche injecteur d'un jet cryogénique d'azote sous haute pressionMétay, B. et al. | 2003
- 187
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Diagnostic X de la zone proche injecteur d'un jet cryogénique d'azote sous haute pressionMétay, B. / Robert, E. / Viladrosa, R. / Cachoncinlle, C. / Pouvesle, J. M. / Mayer, W. / Schneider, G. et al. | 2003
- 191
-
Dynamique sub-picoseconde de l'interaction laser de puissance – agrégats de gaz rare : emission intense de rayons X et production d'ions multichargésPrigent, C. / Adoui, L. / Dreuil, S. / Gauthier, J. C. / Gobert, O. / Lamour, E. / Meynadier, P. / Normand, D. / Perdrix, M. / Rozet, J.-P. et al. | 2003
- 191
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Dynamique sub-picoseconde de l'interaction laser de puissance -- agrégats de gaz rare : emission intense de rayons X et production d'ions multichargésPrigent, C. et al. | 2003
- 195
-
Émission X(L) du xénon par interaction laser-agrégatsAdoui, L. / Gobert, O. / Indelicato, P. / Lamour, E. / Meynadier, P. / Normand, D. / Perdrix, M. / Prigent, C. / Rozet, J.-P. / Vernhet, D. et al. | 2003
- 195
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Émission X(L) du xénon par interaction laser-agrégatsAdoui, L. et al. | 2003
- 199
-
Caractérisation de jets d'agrégats d'argon pour l'étude de l'interaction laser-agrégatsBlasco, F. / Caillaud, T. / Dorchies, F. / Stenz, C. / Boldarev, A. S. / Gasilov, V. A. et al. | 2003
- 199
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Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Caractérisation de jets d'agrégats d'argon pour l'étude de l'interaction laser-agrégatsBlasco, F. et al. | 2003
- 203
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Étude expérimentale de l'émission X d'agrégats nanométriques d'argon irradiés par une impulsion laser intenseCaillaud, T. / Blasco, F. / Dorchies, F. / Glinec, Y. / Stenz, C. / Stevefelt, J. et al. | 2003
- 203
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Étude expérimentale de l'émission X d'agrégats nanométriques d'argon irradiés par une impulsion laser intenseCaillaud, T. et al. | 2003
- 207
-
Diagnostics d'imagerie X par microscopes X à miroirs développés dans le cadre du programme LILRosch, R. / Boutin, J.-Y. / Le Breton, J. P. / Lidove, G. / Douvry, N. et al. | 2003
- 207
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Diagnostics d'imagerie X par microscopes X à miroirs développés dans le cadre du programme LILRosch, R. et al. | 2003
- 211
-
Amplification de Bragg de la raie Si Kα émise par une multicouche Mo/Si irradiée par un faisceau d'électrons : vers un laser X à rétroaction distribuée ?Jonnard, P. / André, J.-M. / Bonnelle, C. / Bridou, F. / Pardo, B. et al. | 2003
- 211
-
Génération de rayonnement X, imagerie et applications - Amplification de Bragg de la raie Si Ka émise par une multicouche Mo-Si irradiée par un faisceau d'électrons : vers un laser X à rétroaction distribuée ?Jonnard, P. et al. | 2003
- 217
-
Le projet français PREUVE, projet d'études et de développement pour la lithographie extrême ultravioletBoher, P. / Paret, V. / Robic, J.-Y. / Marmoret, R. / Schmidt, M. / Cachoncinlle, C. / Geyl, R. / Fermé, J.-J. / Vidal, B. / Barbiche, J.-M. et al. | 2003
- 217
-
Sources, optique et applications VUV - Le projet français PREUVE, projet d'études et de développement pour la lithographie extrême ultravioletBoher, P. et al. | 2003
- 227
-
Imageur diamant et nitrures pour l'observation UV du soleilHochedez, J.-F. / Appourchaux, T. / Belsky, A. / Castex, M. C. / Deneuville, A. / Dhez, P. / Fleck, B. / Hainaut, O. / Idir, M. / Kleider, J.-P. et al. | 2003
- 227
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Sources, optique et applications VUV - Imageur diainant et nitrures pour l'observation UV du soleilHochedez, J.-F. et al. | 2003
- 233
-
Sources, optique et applications VUV - Microscopie non linéaireCanioni, L. et al. | 2003
- 233
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Microscopie non linéaireCanioni, L. / Barillé, R. / Brocus, A. / Sarger, L. et al. | 2003
- 239
-
Sources, optique et applications VUV - Photochimie supramoléculaire et complexes de coordinationAmouyal, E. et al. | 2003
- 239
-
Photochimie supramoléculaire et complexes de coordinationAmouyal, E. et al. | 2003
- 243
-
L'accélérateur d'électrons picoseconde ELYSE à OrsayBelloni, J. / Gaillard, M. / Monard, H. / Mostafavi, M. / Lampre, I. / Remita, H. / Marignier, J. L. / Bourdon, J. C. / Garvey, T. et al. | 2003
- 243
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Sources, optique et applications VUV - L'accélérateur d'électrons picoseconde ELYSE à OrsayBelloni, J. et al. | 2003
- 247
-
5 W à 255 nm et 15 kHz obtenus par doublage de fréquence d'un laser CuHBr dans du BBOHuot, N. / Jonin, C. / Le Harzic, R. / Audouard, E. / Laporte, P. et al. | 2003
- 247
-
Sources, optique et applications VUV - 5 W à 255 nm et 15 kHz obtenus par doublage de fréquence d'un laser CuHBr dans du BBOHuot, N. et al. | 2003
- 251
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Sources, optique et applications VUV - Intérêt des multicouches constituées de matériaux légers pour la réalisation d'optiques X-UV autour de 40 eVBridou, F. et al. | 2003
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Intérêt des multicouches constituées de matériaux légers pour la réalisation d'optiques X-UV autour de 40 eVBridou, F. / Ravet, M. F. / Delmotte, F. / Song, X. / Jerome, A. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10-30 nmDelmotte, F. et al. | 2003
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Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10–30 nmDelmotte, F. / Ravet, M. F. / Bridou, F. / Song, X. / Jerome, A. / Boujdayane, S. / Hubert, S. / Zeitoun, Ph. / Idir, M. / Troussel, P. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - CAPELLA : une source de rayonnement extrême UV à 13.5 nm par décharge capillaireSarroukh, O. et al. | 2003
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CAPELLA : une source de rayonnement extrême UV à 13.5 nm par décharge capillaireSarroukh, O. / Robert, E. / Gonthiez, T. / Thomann, A. L. / Viladrosa, R. / Fleurier, C. / Pouvesle, J. M. / Cachoncinlle, C. et al. | 2003
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Étude théorique et expérimentale d'une source EUV par décharge capillairePons, J. / Lan, K. / Cachoncinlle, C. / Robert, E. / Viladrosa, R. / Pouvesle, J. M. / Fleurier, C. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Étude théorique et expérimentale d'une source EUV par décharge capillairePons, J. et al. | 2003
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Développement d'une source EUV plasma laser pour la micro-lithographieSegers, M. / Bougeard, M. / Caprin, E. / Ceccotti, T. / Chichmanian, F. / Descamps, D. / Haltebourg, P. / Hergott, J.-F. / Hulin, S. / Normand, D. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Développement d'une source EUV plasma laser pour la micro-lithographieSegers, M. et al. | 2003
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Un modèle collisionnel radiatif appliqué à l'étude des lampes à décharge gaz rare “basse pression”Bezanahary, T. / Zissis, G. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Un modèle collisionnel radiatif appliqué à l'étude des lampes à décharge gaz rare << basse pression >>Bezanahary, T. et al. | 2003
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Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultravioletSoullié, G. / Lafon, C. / Rosch, R. / Babonneau, D. / Garaude, F. / Huelvan, S. / Trublet, T. / Bonnet, L. / Marmoret, R. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultravioletSoullié, G. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Étude et développement d'une source de pompage optique VUV de forte puissance pour l'amplification d'impulsions laser femtosecondes sur la transition XeF(C-A)Tcheremiskine, V.I. et al. | 2003
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Étude et développement d'une source de pompage optique VUV de forte puissance pour l'amplification d'impulsions laser femtosecondes sur la transition XeF(C-A)Tcheremiskine, V. I. / Sentis, M. / Mikheev, L. D. / Clady, R. et al. | 2003
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Une source de rayonnement développée pour des mesures optiques de spectroscopie d'absorption large bandeHong, D. / Sandolache, G. / Capelle, T. / Bauchire, J. M. / Le Menn, E. / Fleurier, C. et al. | 2003
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Sources, optique et applications VUV - Une source de rayonnement développée pour des mesures optiques de spectroscopie d'absorption large bandeHong, D. et al. | 2003
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