Simple and Rapid Fabrication Process of Porous Silicon Surface Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (Englisch)
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In:
Journal of Microelectromechanical Systems
;
29
, 1
;
62-67
;
2020
- Aufsatz (Zeitschrift) / Elektronische Ressource
-
Titel:Simple and Rapid Fabrication Process of Porous Silicon Surface Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching
-
Beteiligte:Sugaya, T. ( Autor:in ) / Yoon, D. H. ( Autor:in ) / Yamazaki, H. ( Autor:in ) / Nakanishi, K. ( Autor:in ) / Sekiguchi, T. ( Autor:in ) / Shoji, S. ( Autor:in )
-
Erschienen in:Journal of Microelectromechanical Systems ; 29, 1 ; 62-67
-
Verlag:
- Neue Suche nach: IEEE
-
Erscheinungsdatum:01.02.2020
-
Format / Umfang:4041769 byte
-
ISSN:
-
DOI:
-
Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
-
Format:Elektronische Ressource
-
Sprache:Englisch
-
Datenquelle:
Inhaltsverzeichnis – Band 29, Ausgabe 1
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