Silylation and Dry Processing (Englisch)
- Neue Suche nach: Roland, B.
- Neue Suche nach: Roland, B.
In:
Advanced materials for optics and electronics
;
4
, 2
; 129-138
;
1994
-
ISSN:
- Aufsatz (Zeitschrift) / Print
-
Titel:Silylation and Dry Processing
-
Beteiligte:Roland, B. ( Autor:in )
-
Erschienen in:Advanced materials for optics and electronics ; 4, 2 ; 129-138
-
Verlag:
- Neue Suche nach: Wiley
-
Erscheinungsort:Chichester
-
Erscheinungsdatum:1994
-
ISSN:
-
ZDBID:
-
Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
-
Format:Print
-
Sprache:Englisch
- Neue Suche nach: 51.40 / 51.40 / 53.09 / 53.09
- Weitere Informationen zu Basisklassifikation
- Neue Suche nach: 275/3445/5125/5670
-
Schlagwörter:
-
Klassifikation:
BKL: 51.40 Werkstoffe für bestimmte Anwendungsgebiete / 51.40 / 53.09 / 53.09 Werkstoffe der Elektrotechnik Lokalklassifikation TIB: 275/3445/5125/5670 -
Datenquelle:
Inhaltsverzeichnis – Band 4, Ausgabe 2
Zeige alle Jahrgänge und Ausgaben
Die Inhaltsverzeichnisse werden automatisch erzeugt und basieren auf den im Index des TIB-Portals verfügbaren Einzelnachweisen der enthaltenen Beiträge. Die Anzeige der Inhaltsverzeichnisse kann daher unvollständig oder lückenhaft sein.
- 53
-
Guest EditorialJones, R.G. et al. | 1994
- 55
-
Microlithography: An OverviewBrambley, D. et al. | 1994
- 75
-
Novolac-based ResistsHanabata, M. et al. | 1994
- 83
-
Chemically Amplified Resists: Chemistry and ProcessesReichmanis, E. et al. | 1994
- 95
-
Polymeric Silicon-containing Resist MaterialsMiller, R.D. et al. | 1994
- 129
-
Silylation and Dry ProcessingRoland, B. et al. | 1994
- 139
-
Electron Beam and X-ray ResistsJones, R.G. et al. | 1994
- 155
-
Wet Development of Polymer Resists: a Guide to Solvent SelectionCowie, J.M.G. et al. | 1994
- 165
-
Modeling of Resist PerformanceHartney, M.A. et al. | 1994
- 177
-
Diary of Conferences and Symposia| 1994