Identification and sizing of particle defects in semiconductor-wafer processing (Englisch)
- Neue Suche nach: Yoo, Seong-Ho
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- Neue Suche nach: Yoo, Seong-Ho
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- Neue Suche nach: Christenson, K.
- Neue Suche nach: Butterbaugh, J.
- Neue Suche nach: Narayanswami, N.
In:
Journal of Vacuum Science and Technology, Part B (Microelectronics and Nanometer Structures)
;
19
, 2
;
344-353
;
2001
-
ISSN:
- Aufsatz (Zeitschrift) / Print
-
Titel:Identification and sizing of particle defects in semiconductor-wafer processing
-
Beteiligte:Yoo, Seong-Ho ( Autor:in ) / Weygand, J. ( Autor:in ) / Scherer, J. ( Autor:in ) / Davis, L. ( Autor:in ) / Liu, Benjamin ( Autor:in ) / Christenson, K. ( Autor:in ) / Butterbaugh, J. ( Autor:in ) / Narayanswami, N. ( Autor:in )
-
Erschienen in:
-
Verlag:
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Erscheinungsdatum:2001
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Format / Umfang:10 Seiten, 15 Quellen
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ISSN:
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Coden:
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DOI:
-
Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
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Format:Print
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
-
Datenquelle:
Inhaltsverzeichnis – Band 19, Ausgabe 2
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Identification and sizing of particle defects in semiconductor-wafer processingYoo, Seong-Ho / Weygand, J. / Scherer, J. / Davis, L. / Liu, Benjamin / Christenson, K. / Butterbaugh, J. / Narayanswami, N. et al. | 2001
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Interactions between silica xerogel and tantalumRogojevic, S. / Jain, A. / Feng Wang / Gill, W.N. / Wayner, P.C. / Plawsky, J.L. / Lu, Toh-Ming / Yang, Guang-Rong / Lanford, W.A. / Kumar, A. et al. | 2001
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