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METHOD FOR SCANNING A SAMPLE BY A CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2020| -
Method for scanning a sample by a charged particle beam system
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
METHOD FOR SCANNING A SAMPLE BY A CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2022| -
Method for scanning a sample by a charged particle beam system
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
METHOD FOR DETERMINING A CORRECTED DIMENSIONAL PARAMETER VALUE RELATING TO A FEATURE FORMED BY A LITHOGRAPHIC PROCESS AND ASSOCIATED APPARATUSES
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
OPTICAL METROLOGY OF LITHOGRAPHIC PROCESSES USING ASYMMETRIC SUB-RESOLUTION FEATURES TO ENHANCE MEASUREMENT
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2023| -
Optical metrology of lithographic processes using asymmetric sub-resolution features to enhance measurement
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
OPTICAL METROLOGY OF LITHOGRAPHIC PROCESSES USING ASYMMETRIC SUB-RESOLUTION FEATURES TO ENHANCE MEASUREMENT
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
OPTICAL METROLOGY OF LITHOGRAPHIC PROCESSES USING ASYMMETRIC SUB-RESOLUTION FEATURES TO ENHANCE MEASUREMENT
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017|
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