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A controlled pulsed reactive magnetron sputtering process for oxide film deposition
Tema Archiv | 2006| -
Adjustment of Plasma Properties in Magnetron Sputtering by Pulsed Powering in Mixed Unipolar and Bipolar Mode
British Library Conference Proceedings | 2015| -
Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by pulsed powering in unipolar/bipolar hybrid pulse mode
British Library Online Contents | 2016| -
Advanced key technologies for magnetron sputtering and PECVD of inorganic and hybrid transparent coatings
British Library Online Contents | 2010| -
Advanced Possibilities for the Stationary Coating of Substrates by Means of Pulsed Magnetron Sputtering
British Library Conference Proceedings | 1997| -
Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double-ring magnetron sputter sources
British Library Online Contents | 1995| -
Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double-ring magnetron sputter sources
British Library Conference Proceedings | 1995| -
Al-Doped ZnO Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering in Mid-Frequency Mode with Dual Cathodes
British Library Online Contents | 2002| -
Anode effects on energetic particle bombardment of the substrate in pulsed magnetron sputtering
British Library Online Contents | 2000| -
Anode effects on energetic particle bombardment of the substrate in pulsed magnetron sputtering
Online Contents | 2000|Beteiligte: Frach, P. -
Anti-infective coatings based on dispersed TiO2 nanoparticles in polymer matrices
Freier ZugriffFraunhofer Publica | 2011| -
Aspects and results of long-term stable deposition of Al~2O~3 with high rate pulsed reactive magnetron sputtering
British Library Conference Proceedings | 1993| -
Aspects and results of long-term stable deposition of Al~2O~3 with high rate pulsed reactive magnetron sputtering
British Library Online Contents | 1993|
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