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Synonyme wurden verwendet für: Elektronenstrahllithografie
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Verwendete Synonyme:
- e beam lithography
- electron beam lithography
- elektronenlithografie
- elektronenlithographie
- elektronenstrahllithographie
-
$ C_{60} $-containing polymers for electron beam lithography
Online Contents | 2014|Schlagwörter: Electron beam lithography -
$ C_{60} $-containing polymers for electron beam lithography
Online Contents | 2014|Schlagwörter: Electron beam lithography -
0.1 microm scale lithography using a conventional electron beam system
Tema Archiv | 1985|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.1 mu m fine pattern fabrication using variable-shaped electron beam lithography
Tema Archiv | 1989|Schlagwörter: VARIABLE-SHAPED ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY -
0.1 mu m gate length MODFETs with unity current gain cutoff frequency above 110 GHz
Tema Archiv | 1988|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.1 μm gate length MODFETs with unity current gain cutoff frequency above 110 GHz
IET Digital Library Archive | 1988|Schlagwörter: electron-beam lithography -
0.2 micron T-gate InAlAs/InGaAs MODFET with FT = 170 GHz
Tema Archiv | 1990|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.5 micrometer CMOS devices and circuit characterization
Tema Archiv | 1989|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.5 micron gate CMOS technology using E-beam/optical mix lithography
Tema Archiv | 1986|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.5 micro SWAMI/NMOS process technology with electron beam lithography
Tema Archiv | 1985|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.15 micron T-gate E-beam lithography using crosslinked P(MMA/MAA) developed in ortho-xylene resulting in high contrast and high plasma stability for dry etched recess gate pseudomorphic MODFETs for MMIC production
Tema Archiv | 1994|Schlagwörter: Elektronenstrahllithographie -
0.15 mu m CMOS devices with reduced junction capacitance
Tema Archiv | 1995|Schlagwörter: Elektronenstrahllithographie -
0.25 micrometer lithography using a 50 kV shaped electron-beam vector scan system
Tema Archiv | 1995|Schlagwörter: Elektronenstrahllithographie -
0.25 micrometer trilevel lithigraphy using KTI 747 negative resist for the planarizing layer
Tema Archiv | 1990|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
0.25 micron gate length CMOS devices for cryogenic operation
Tema Archiv | 1994|Schlagwörter: Elektronenstrahllithographie -
1:4 demagnifying electron projection system
Tema Archiv | 1979|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
1.5 mum phase-shifted DFB laser by EBX and mass-transport technique
Tema Archiv | 1985|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE -
1.5 mum phase-shifted DFB lasers for single-mode operation
Tema Archiv | 1984|Schlagwörter: ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE
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