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Photoemission and x-ray absorption studies of valence states in (Ni,Zn,Fe,Ti)3O4 thin films exhibiting photoinduced magnetization
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2008| -
Extending Ion Source Life on High Current Ion Implant Tools with In‐Situ Chemical Cleaning
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio -
Extension of high Te regime with upgraded electron cyclotron resonance heating system in the Large Helical Device
American Institute of Physics | 2014| -
Novel Approach to Conformal FINFET Extension Doping
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio -
Comparison of H− and D− production in a magnetically filtered multicusp source
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 1990| -
Deuterium Uptake in Iron Oxide Under ‐Plasma Exposure
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio -
Enabling Solutions for 28 nm CMOS Advanced Junction Formation
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio -
Formation of Shallow PN Junction by Cluster Boron Implantation and Rapid Annealing Using Infrared Semiconductor Laser
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio -
Demonstration Of Cost‐Effective, Highly Productive Ultra‐Shallow Junctions Using Molecular Carbon And Boron As An Alternative To Ge/C/B Implantation
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio -
Implant Monitoring Measurements On Ultra Shallow Implants Before And After Anneal Using Photomodulated Reflection And Junction Photovoltage Measurement Techniques
American Institute of Physics | 2011|Beteiligte: Seki, Toshio
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