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Radio frequency plasma nitriding of aluminium at higher power levels
Tema Archiv | 2006|Schlagwörter: 100-Watt-Bereich, 500-Watt-Bereich -
Formation of cross-sectional profile of a clad bead in coaxial laser cladding
Tema Archiv | 2007|Schlagwörter: 500-Watt-Bereich -
Microtrenching resulting from specular reflection during chlorine etching of silicon
Tema Archiv | 1998|Schlagwörter: 100-Watt-Bereich, 800-Watt-Bereich -
Interstitial Li+ Occupancy Enabling Radiative/Nonradiative Transition Control toward Highly Efficient Cr3+-Based Near-Infrared Luminescence
American Chemical Society | 2022|Schlagwörter: watt-level output -
Titanium-implanted CaTiO3 films and their changes in Hanks' solution
Tema Archiv | 2003|Schlagwörter: 200-Watt-Bereich, 50-Watt-Bereich -
Etching characteristics of TiN used as hard mask in dielectric etch process
Tema Archiv | 2006|Schlagwörter: 500-Watt-Bereich, 100-Watt-Bereich -
Redeposition of etch products on sidewalls during SiO2 etching in a fluorocarbon plasma. IV. Effects of substrate temperature in a CF4 plasma
Tema Archiv | 2003|Schlagwörter: 200-Watt-Bereich, 500-Watt-Bereich -
Development of biocompatible oxygen-permeable films holding paramagnetic carbon particles: evaluation of their performance and stability in EPR oximetry
Tema Archiv | 2001|Schlagwörter: 1-Watt-Bereich, 3-Watt-Bereich -
Reactive ion etching of Ge2Sb2Te5 in CHF3/O2 plasma for nonvolatile phase-change memory device
Tema Archiv | 2007|Schlagwörter: 200-Watt-Bereich -
Factors affecting surface roughness and coercivity of Ni80Fe20 thin films
Tema Archiv | 2002|Schlagwörter: 50-Watt-Bereich, 300-Watt-Bereich, 200-Watt-Bereich -
AFRL thin film solar cell development and upcoming flight experiments
Tema Archiv | 2005|Schlagwörter: 5-Watt-Bereich, 60-Watt-Bereich -
Miniature loop heat pipes - a promising means for cooling electronics
Tema Archiv | 2004|Schlagwörter: 100-Watt-Bereich, 200-Watt-Bereich -
Time-multiplexing generates a diode laser beam with high beam quality
Tema Archiv | 2007|Schlagwörter: 10-Watt-Bereich -
Etching control of benzocyclobutene in CF4/O2 and SF6/O2 plasmas with thick photoresist and titanium masks
Tema Archiv | 2006|Schlagwörter: 300-Watt-Bereich -
Effects of process variables on laser direct formation of thin wall
Tema Archiv | 2007|Schlagwörter: 500-Watt-Bereich -
Liquid crystal alignment effects using a-C:H thin films deposited at RF bias condition
Tema Archiv | 2004|Schlagwörter: 1-Watt-Bereich, 60-Watt-Bereich -
The correlation between composition and preferred orientation of ferroelectric SrBi2Ta2O9 thin films
Tema Archiv | 1999|Schlagwörter: 100-Watt-Bereich, 30-Watt-Bereich, 10-Watt-Bereich -
Submicronic etching of borophosphosilicate glass using NF3 and NF3/He radio frequency glow discharge
Tema Archiv | 2004|Schlagwörter: 500-Watt-Bereich
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