Erscheinungsjahr
Medientyp
Datenquelle
Fach
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Method of and apparatus for in-situ repair of reflective optic
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2022| -
METHOD OF AND APPARATUS FOR IN-SITU REPAIR OF REFLECTIVE OPTIC
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2021| -
Apparatus for and method of active cleaning of EUV optic with RF plasma field
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2019| -
Method of temperature compensation in high power focusing system for EUV LPP source
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
EUV LPP source with improved dose control by tracking dose over specified window
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
APPARATUS FOR AND METHOD OF ACTIVE CLEANING OF EUV OPTIC WITH RF PLASMA FIELD
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
EUV LPP SOURCE WITH IMPROVED DOSE CONTROL BY TRACKING DOSE OVER SPECIFIED WINDOW
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Apparatus for and method of active cleaning of EUV optic with RF plasma field
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2017| -
Apparatus for and method of temperature compensation in high power focusing system for EUV LPP source
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2016| -
METHOD OF AND APPARATUS FOR IN-SITU REPAIR OF REFLECTIVE OPTIC
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2016| -
RF EUV APPARATUS FOR AND METHOD OF ACTIVE CLEANING OF EUV OPTIC WITH RF PLASMA FIELD
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2016| -
APPARATUS FOR AND METHOD OF TEMPERATURE COMPENSATION IN HIGH POWER FOCUSING SYSTEM FOR EUV LPP SOURCE
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2016| -
APPARATUS FOR AND METHOD OF ACTIVE CLEANING OF EUV OPTIC WITH RF PLASMA FIELD
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2015| -
APPARATUS FOR AND METHOD OF ACTIVE CLEANING OF EUV OPTIC WITH RF PLASMA FIELD
Freier ZugriffEuropäisches Patentamt | 2015| -
Silicon Prismanes: Calculation and Comparison of Heats of Formation
Bentham Science Publishers | 2022|
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