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Nanoindentation study of thin plasma enhanced chemical vapor deposition SiCOH low-k films modified in He/H~2 downstream plasma
British Library Online Contents | 2010| -
Nanoindentation study of thin plasma enhanced chemical vapor deposition SiCOH low-k films modified in He/H~2 downstream plasma
British Library Conference Proceedings | 2010| -
Impact of organic linking and terminal groups on the mechanical properties of self-assembly based low-k dielectrics
American Institute of Physics | 2017| -
Intrinsic effect of porosity on mechanical and fracture properties of nanoporous ultralow-k dielectrics
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2012| -
Extraction of elastic modulus of porous ultra-thin low-k films by two-dimensional finite-element simulations of nanoindentation
American Institute of Physics | 2016| -
Determination of elastic properties of a MnO2 coating by surface acoustic wave velocity dispersion analysis
American Institute of Physics | 2014| -
Determining the physical properties of EpoClad negative photoresist for use in MEMS applications
British Library Online Contents | 2011| -
Intrinsic effect of porosity on mechanical and fracture properties of nanoporous ultralow-k dielectrics (3 pages)
British Library Online Contents | 2012| -
Determination of elastic properties of a MnO~2 coating by surface acoustic wave velocity dispersion analysis (7 pages)
British Library Online Contents | 2014| -
Improvement of cohesion strength in ULK OSG materials by pore structure adjustment
Tema Archiv | 2015| -
Improving mechanical robustness of ultralow-k SiOCH plasma enhanced chemical vapor deposition glasses by controlled porogen decomposition prior to UV-hardening
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2010|
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