Optimizing Light-Source Aperture for Off-Axis Illumination in Optical Nanolithography: Theoretical Consideration (Englisch)
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In:
Russian Microelectronics
;
33
, 3
;
127-136
;
2004
- Aufsatz (Zeitschrift) / Elektronische Ressource
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Titel:Optimizing Light-Source Aperture for Off-Axis Illumination in Optical Nanolithography: Theoretical Consideration
-
Beteiligte:
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Erschienen in:Russian Microelectronics ; 33, 3 ; 127-136
-
Verlag:
- Neue Suche nach: Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers
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Erscheinungsort:New York
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Erscheinungsdatum:01.05.2004
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Format / Umfang:10 pages
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ISSN:
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DOI:
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Medientyp:Aufsatz (Zeitschrift)
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Format:Elektronische Ressource
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Sprache:Englisch
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Schlagwörter:
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Datenquelle:
Inhaltsverzeichnis – Band 33, Ausgabe 3
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Optimizing Light-Source Aperture for Off-Axis Illumination in Optical Nanolithography: Theoretical ConsiderationIvin, V. V. / Makhviladze, T. M. / Valiev, K. A. et al. | 2004
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Pore Sealing on Si(001) and Si(111) in Homoepitaxy and Annealing: A Monte Carlo SimulationZverev, A. V. / Neizvestny, I. G. / Chemakin, A. V. / Shwartz, N. L. / Yanovitskaya, Z. Sh. et al. | 2004
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Majority-Carrier Lifetime in the Potential Barrier of an MIS Capacitor under Monopolar ConditionsPenin, N. A. et al. | 2004
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ZnO thin film with hole conduction produced by N+ ion implantation and oxygen-radical annealingGeorgobiani, A.N. / Gruzintsev, A.N. / Volkov, V.T. / Vorobev, M.O. / Dravin, V.A. et al. | 2004
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Circuit-Design Techniques of Radiation Hardening for Monolithic Op AmpsAgakhanyan, T. M. et al. | 2004
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