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New instrument to characterize materials and optics for 157-nm lithography [4404-16]
British Library Conference Proceedings | 2001| -
Anisotropic differential magnetoresistance of Cu/Co(100) multilayers
British Library Online Contents | 1992| -
A New Purged UV Spectroscopic Ellipsometer to Characterize 157 nm Nanolithographic Materials
British Library Conference Proceedings | 2000| -
41.4: New Strategy for Characterization of Multi-view Auto-stereoscopic Displays using Fourier Optics Viewing Angle Instrument
British Library Conference Proceedings | 2014| -
Wear of die materials in full scale plastic injection moulding of glass fibre reinforced polycarbonate
British Library Online Contents | 2001| -
Combined metrology including VUV spectroscopic ellipsometer and grazing x-ray reflectance for precise characterization of thin films and multilayers at 157 nm [4449-06]
British Library Conference Proceedings | 2001| -
Feasibility and Applicability of Integrated Metrology Using Spectroscopic Ellipsometry in a Cluster Tool
British Library Conference Proceedings | 2001| -
A new purged UV spectroscopic ellipsometer to characterize thin films and multilayers at 157 nm
Freier ZugriffAmerican Institute of Physics | 2001|
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