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Dielectric Science and Materials - Dielectric Constant of Porous Ultra Low-k Thin Films
Online Contents | 2012| -
Comparative study of non-polar switching behaviors of NiO- and HfO2-based oxide resistive-RAMs
Online Contents | 2011| -
Porous ultra low k deposited by PECVD: From deposition to material properties
Online Contents | 2007| -
Plasma-enhanced-chemical-vapor-deposited ultralow k for a postintegration porogen removal approach
Online Contents | 2006| -
Resistance switching of Cu/SiO2 memory cells studied under voltage and current-driven modes
NationallizenzAmerican Institute of Physics | 2010|
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