Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse (German)
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2017
- Theses / Electronic Resource
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Title:Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse
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Contributors:Jurisch, Michael ( author )
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Dissertation:Dissertation, Stuttgart, Universität Stuttgart ; 2017
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Place of publication:Stuttgart
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Publication date:2017
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Size:1 Online-Ressource (186 Seiten)
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Remarks:Illustrationen, Diagramme
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DOI:
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Type of media:Theses
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Type of material:Electronic Resource
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Language:German
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Classification:
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Source: