1–5 μm spektriniam diapazonui skirtų aukšto atspindžio daugiasluoksnių veidrodžių su kontroliuojama dispersija formavimas naudojant Si/SiO2 medžiagų porą ir jonapluoščio dulkinimo technologiją ; Formation of high-reflectivity si/sio2 multilayer mirrors with controlled dispersion for 1-5 μm spectral range using ion beam sputtering technology (Lithuanian, English)
Free access
- New search for: Gimževskis, Ugnius
- New search for: Gimževskis, Ugnius
- New search for: Kičas, Simonas
2020
- Theses / Electronic Resource
-
Title:1–5 μm spektriniam diapazonui skirtų aukšto atspindžio daugiasluoksnių veidrodžių su kontroliuojama dispersija formavimas naudojant Si/SiO2 medžiagų porą ir jonapluoščio dulkinimo technologiją ; Formation of high-reflectivity si/sio2 multilayer mirrors with controlled dispersion for 1-5 μm spectral range using ion beam sputtering technology
-
Contributors:Gimževskis, Ugnius ( author ) / Kičas, Simonas
-
Publication date:2020-06-11
-
Type of media:Theses
-
Type of material:Electronic Resource
-
Language:Lithuanian, English
- New search for: 620
- Further information on Dewey Decimal Classification
-
Classification:
DDC: 620 -
Source: