Ebeam staggered beam aperture array (English)
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2019
- Patent / Electronic Resource
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Title:Ebeam staggered beam aperture array
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Patent number:US10386722
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Patent applicant:
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Patent family:
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Contributors:
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Publisher:
- New search for: Europäisches Patentamt
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Publication date:2019-08-20
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Type of media:Patent
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Type of material:Electronic Resource
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Language:English
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Classification:
IPC: G06F ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING, Elektrische digitale Datenverarbeitung / G03F Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen, PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES / G21K TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, Verfahren und Vorrichtungen zur Handhabung von Teilchen oder ionisierender Strahlung, soweit nicht anderweitig vorgesehen / H01J Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen, ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS / H01L Halbleiterbauelemente, SEMICONDUCTOR DEVICES -
Source: