Berechnung zusammengesetzter elektronenoptischer Fokussier- und Ablenksysteme mit ueberlagerten Feldern. Teil 1. Feldentwicklung und Bahngleichung
(German)
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In vielen Elektronenstrahlmaschinen werden zusammengesetzte elektronenoptische Systeme eingesetzt. Fuer Compoundoptiken aus elektrischen und magnetischen Rundlinsen, Ablenkelementen, Stigmatoren und Verzeichnungskorrektoren wird eine geschlossene Darstellung gegeben. Durch Entwicklung der elektrischen Feldstaerke und magnetischen Flussdichte nach ebenen Multipolen erhaelt man physikalisch anschaulich interpretierbare Ergebnisse. Zur besseren Uebersicht wird schon in der Bahngleichung ausser nach verschiedenen Ordnungen nach statischen, dynamischen, chromatischen und Einfluessen durch Dejustierungen unterschieden.