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Zur Erzeugung von Eigenschaften wie elektrische und thermische Leitfähigkeit, Antistatik, elektro-magnetische Schirmung und Wärmedämmung können Textilien durch verschiedene Beschichtungsverfahren metallisiert werden. Die PVD-Technik hat sich dabei in den letzten Jahren als eine geeignete Methode erwiesen. Es können mit dieser Technologie äußerst dünne und haftfeste Schichten auf nahezu alle textilen Substratmaterialien aufgebracht werden. Der Begriff PVD-Technologie (Physical Vapor Deposition) steht für alle rein physikalischen Verfahren zum Erzeugen und Abscheiden der Dampfphase von Metallen, Metallverbindungen oder Legierungen zur Oberflächenveredlung unter Hochvakuumbedingungen. Die industriell am weitesten entwickelten Verfahren sind das thermische Verdampfen, das Elektronenstrahl-Verdampfen, das Lichtbogen-Verdampfen und das Magnetron-Zerstäuben. Die PVD-Beschichtung von textilen Flächen für den Einsatz in funktioneller Bekleidung beschränkt sich gegenwärtig hauptsächlich auf das thermische und Elektronenstrahl-Verdampfen von niedrig-schmelzenden Metallen wie Al, Ag und Cu für den Einsatz in Wärme- und Kälteschutzkleidung, im UV-Schutz oder als antimikrobielle Ausrüstung. Die PVD-Sputter-Beschichtungen erfolgten in unterschiedlichen Anlagen. Es wurden beidseitige Kupferschichten in einer industriellen Batch-Anlage vom Typ HTC 1000/4 ABS in einem Argonplasma bei einem Gasdruck zwischen 0,1 - 0,3 Pa, einer Bias von 30 V und einem Kathodenstrom von 8 kW auf einem kalanderverfestigten Vliesstoff Colpet 50, einem Spinnvlies Colbond W100 sowie einem Rippstop-Gewebe vom Typ MIL-C7020 abgeschieden. Die maximale Kammertemperatur lag zwischen 130 Grad C und 150 Grad C. Für die mikrobiologische Textilprüfung wurden die Proben aus dem Silicagewebe mit dem Bewuchstest nach DIN 53 931 geprüft. Es konnte festgestellt werden, dass sowohl die Konstruktion des Flächengebildes als auch die Schichtdicke einen entscheidenden Einfluss auf das Schirmungsverhalten metallisierter Textilien hat. Die Vliesstoffe weisen mit einem Oberflächenwiderstand von etwa 0,3 Ohm und einer elektro-magnetischen Schirmdämpfung von 60 dB für Textilien gute Schirmungseigenschaften auf. Die mikrobiologischen Untersuchungen ergaben unterschiedlich starke Reaktionen der metallisierten Proben auf die eingesetzten Pilze. Der Test unterscheidet zwischen Hofbildung (textile Fläche frei von Bewuchs), nur am Rand bewachsen, bis zu 25 % der Fläche vom Rand her bewachsen, 25-75 % bewachsen und völligem Bewuchs. Die untersuchten PVD-Schichten führten grundsätzlich zu einer Hemmung des Schimmelpilzbewuchses.