Block copolymer nanostructures formed by disturbed self-assembly and uses thereof (English)
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2019
- Patent / Electronic Resource
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Title:Block copolymer nanostructures formed by disturbed self-assembly and uses thereof
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Patent number:US10364141
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Patent applicant:
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Patent family:
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Contributors:WANG YU ( author ) / ZHONG WEI-HONG ( author )
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Publisher:
- New search for: Europäisches Patentamt
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Publication date:2019-07-30
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Type of media:Patent
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Type of material:Electronic Resource
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Language:English
- New search for: B81C / B82Y / C08F / C08G
- Further information on International Patent Classification
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Classification:
IPC: B81C Verfahren oder Geräte besonders ausgebildet zur Herstellung oder Behandlung von Mikrostrukturbauelementen oder -systemen, PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS / B82Y Bestimmter Gebrauch oder bestimmte Anwendung von Nanostrukturen, SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES / C08F MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS, Makromolekulare Verbindungen, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind / C08G MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS, Makromolekulare Verbindungen, anders erhalten als durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind -
Source: