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Untersucht werden PMMA-Wellenleiterschichten, denen der Photosensibilisator Ketal (Benzildimethylketal) mit einer Konzentration bis zu 50 % bezogen auf das PMMA zugesetzt wird. Die Ursachen fuer die hohen Brechungsindexunterschiede werden diskutiert. Mit Temperbehandlungen werden die Unterschiede weiter vergroessert und fixiert. Ein Verfahren wird vorgestellt, mit dem sich ebenfalls in dem System PMMA/Ketal Wellenleiterstrukturen erreichen lassen. Die Abhaengigkeiten der Aenderungen des Brechungsindexes von der Konzentration des Photosensibilisators, der Schleuderdrehzahl und der Beleuchtungszeit bei diesem Verfahren werden untersucht. Das Verfahren laesst sich zur Herstellung von optischen Komponenten in Wellenleiterschichten nutzen. Das erreichte Aufloesungsvermoegen betraegt dabei 25 mikrom.