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Mikrostrukturen auf Glas- und Kunststoffsubstraten werden für die unterschiedlichsten Anwendungen eingesetzt (Produktsicherung mit holographischen Mustern, Lichtstreuung und -leitung im Displaybereich u. a.). Für diese Anwendungen sind die verwendeten Materialien auf die Prozessgeschwindigkeit oder auf hohe Strukturwiedergabe optimiert. Im Stand der Technik werden thermoplastische Polymere eingesetzt, mit denen die Fertigung von Mikrostrukturen über einen Walzenprozess mit einer Geschwindigkeit von bis zu 60 m/min möglich ist. Der Nachteil liegt dabei in der Relaxation der Strukturen nach dem Herausfahren der geheizten Prägewalze; die Herstellung scharfer Strukturkanten (Kantensteilheit > 80 Grad) ist nicht möglich. Diese Anforderung kann durch die Verwendung von Photolacken bzw. UV-vernetzbaren Ormoceren erfüllt werden. Bei diesem Vorgang ist die Herstellungsgeschwindigkeit meist um eine Größenordnung niedriger, da die Struktur unterhalb des Prägestempels bzw. der Prägewalze mit Hilfe einer UV-Lampe gehärtet werden muss. Das Ziel der Untersuchung bestand daher darin, ein photohärtbares Sol-Gel-Material zu entwickeln, dass kurze Prozesszeiten durch Walzenprägung mit nachgeschalteter UV-Härtung zulässt und gleichzeitig Strukturrelaxation vermeidet. Dazu sollte das Beschichtungssol durch Zusatz von nanoskaligen Partikeln ein strukturviskoses Verhalten erlangen, damit unter der Scherbelastung beim Walzen eine Anpassung an die Struktur erfolgt, die nach dem Walzenprozess bis zur UV-Härtung beständig ist.