Zuverlässigkeitsbewertung von Kupfermetallisierungen (Teilvorhaben der Universität Hannover, Institut f. Halbleiterbauelemente und Werkstoffe (IHW)). Verbesserung der Performance von ICs durch Integration von Kupfer und low-k Dielektrika (PERFECT) (German)
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2004
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Title:Zuverlässigkeitsbewertung von Kupfermetallisierungen (Teilvorhaben der Universität Hannover, Institut f. Halbleiterbauelemente und Werkstoffe (IHW)). Verbesserung der Performance von ICs durch Integration von Kupfer und low-k Dielektrika (PERFECT)
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Contributors:Hofmann, K.R. ( author ) / Hasse, W. ( author ) / Aubel, O. ( author ) / Brocke, H. ( author ) / Xu, X. ( author )
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Published in:
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Publisher:
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Publication date:2004
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Size:92 Seiten, Bilder, Tabellen, 47 Quellen
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Remarks:(+ 3 S. Anh.)
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Type of media:Report
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Type of material:Print
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Language:German
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Contract Number:01M3105F
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Keywords:Metallisierung , Kupfer , Dielektrikum , Zuverlässigkeit , Leiterbahn , Mikrowellenbauelement , Methode der finiten Elemente , Simulation , Experiment , Elektromigration , Testverfahren , mechanisches Verhalten , Temperaturverhalten , elektrische Eigenschaft , Struktur (Werkstoff) , Diffusion , Tantal , Mikroelektronik
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Source: