ELECTROMAGNETIC EFFECT RESISTANT SPATIAL LIGHT MODULATOR (Japanese)
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2018
- Patent / Electronic Resource
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Title:ELECTROMAGNETIC EFFECT RESISTANT SPATIAL LIGHT MODULATOR
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Additional title:耐電磁効果空間光変調器
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Patent number:JP2018120207
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Patent applicant:
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Patent family:
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Contributors:THOMAS L WEAVER ( author )
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Publisher:
- New search for: Europäisches Patentamt
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Publication date:2018-08-02
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Type of media:Patent
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Type of material:Electronic Resource
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Language:Japanese
- New search for: G02F / B82Y
- Further information on International Patent Classification
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Classification:
IPC: G02F DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING,..., Vorrichtungen oder Anordnungen, deren optische Arbeitsweise durch Änderung der optischen Eigenschaften des Mediums der Vorrichtungen oder Anordnungen geändert wird zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder der Richtung von... / B82Y Bestimmter Gebrauch oder bestimmte Anwendung von Nanostrukturen, SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES -
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